05.11.18, 14.00 Uhr Kolloquium Dr. Roger Loo:
'Epitaxial growth schemes for fin and Gate All Around devices'

 

Am Montag, den 05.11.18 um 14.00 Uhr

spricht in unserem Institutskolloquium


Dr. Roger Loo
Principal Member of Technical Staff at IMEC, Leuven, Belgium


zum Thema:

"Epitaxial growth schemes for fin and Gate All Around devices"

 


Gäste sind herzlich willkommen.

 

Veranstaltungsort:

Leibniz-Institut für Kristallzüchtung

Raum 316, Gebäude 19.31

Max-Born-Str. 2

D-12489 Berlin-Adlershof

 

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