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Homepage von Prof. Dr. M. Bickermann
Forschung
Forschungs­aktivitäten
PVT-Züchtungsreaktor

Meine Forschungsschwerpunkte:

  1. Schmelz- und Lösungszüchtung von Oxiden und Fluoriden für optische, piezoelektrische und Laser-Kristalle sowie als Substrate für neuartige elektronische Bauelemente.
  2. Züchtung und Charakterisierung von Halbleiter-Volumeneinkristallen aus der Gasphase. Die Kristalle finden Verwendung als Substratmaterial in der Halbleitertechnik.
  3. Züchtungstechnologien, Charakterisierungmethoden und Korrelation zwischen Herstellung und Eigenschaften von Volumen-Einkristallen allgemein.

Meine Aufgaben

Ich bin nicht nur Professor an der TU Berlin, sondern hauptamtlich Abteilungsleiter für "Dielektrika und Wide-Bandgap-Materialien" am Leibniz-Institut für Kristallzüchtung (IKZ) Berlin.

Am IKZ leite ich die Themengebiete Oxide/Fluoride und Aluminiumnitrid (AlN). Darüber hinaus bin ich als Stellvertreter des Direktors für die Technischen Dienste am IKZ zuständig.

Meine Forschungsthemen und Arbeitsgebiete

Oxide/Fluoride

Diese lang etablierte Arbeitsgruppe beschäftigt sich mit der Herstellung von oxidischen und fluoridischen Kristallen, mit folgenden Haupt-Anwendungsgebieten: Als Substratkristalle für halbleitende Oxidschichten (Ga2O3, In2O3, SnO2), als Substratkistalle für Perowskitschichten (ferroelektrische, multiferroische und supraleitende Schichten), Kristalle für die Hochtemperatur-Piezosensorik (LiNbO3, LiTaO3, Langasites) sowie für Laser- und UV-nichtlinear optische Kristallen. Wir arbeiten vorwiegend mit der hochtemperatur-Czochralski-Methode und der Lösungszüchtung (Flux), wenden aber auch das Bridgman- sowie µ-Pulling-Down- und LHPG-Verfahren zur Züchtung von Volumen- und Faserkristallen ein. Die Arbeitsgruppe wird von Dr. Steffen Ganschow geleitet.

Nähere Informationen stehen auf der IKZ-Homepage.

Aluminiumnitrid (AlN)

In dieser Themengruppe beschäftigen wir uns mit der Gasphasenzüchtung und Charakterisierung von Aluminiumnitrid, einem vielversprechenden Kristallmaterial für die UV-Optoelektronik und möglicherweise auch für die Hochtemperatur- und die Leistungselektronik. Ziel ist die Entwicklung einer industriell relevanten Züchtungstechnologie mit einem Fokus auf Reproduzierbarkeit, Durchmessererweiterung und Defektreduzierung, aber auch auf die Einstellung der elektrischen und optischen Eigenschaften, der Herstellung hochreiner Ausgangsmaterialien und die Entwicklung von Hochtemperaturwerkstoffen für die Züchtung (Tiegel- und Isolationsmaterialherstellung). Deshalb erforschen wir auch grundlagenorientierte Themen wie Dotierung, Entstehung und Entwicklung von Kristalldefekten usw. Die Arbeitsgruppe wird von Dr. Thomas Straubinger geleitet.

Nähere Informationen stehen auf der IKZ-Homepage.

Projekte in meiner Abteilung (Auswahl)

Aktuelle Projekte der Themengruppen der Abteilung

Aktuelle eigenfinanzierte Forschungsthemen